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實驗室設備頁面-標題圖片

光學顯微鏡與鏡像擷取控制單元照片 名稱: 光學顯微鏡與鏡像擷取控制單元
位置: TB608奈微米製程實驗室
規格︰
  1. 三眼觀察鏡,傾斜30度可360度迴轉
  2. 倍率︰50-800X
  3. 目鏡︰廣角WF10X一對
  4. 物鏡:平場消色差、長工作距離PLL5X、10X、20X、50X、80X
  5. 光源︰可調式上下光源,6V/20W
  6. 載物台:雙層式機械物台,同軸移動尺附刻度
  7. 內藏式多組濾光片
  8. CCD攝影機轉接鏡頭

多功能恆電壓電流控制儀照片 名稱: 多功能恆電壓電流控制儀
位置: TB608奈微米製程實驗室
規格︰
  1. Set of PGSTAT30 Potentiostat /Galvanostat
  2. -Maximum output current:±2A
    -Maximum output voltage:±30V
    -Applied potential resolution:150μV
    -Current ranges:10nA to 1A in nine ranges
    -Measured current resolution at current range of 10nA:0.0003% of current range, 30fA
    -Potentiostat risetime / falltime(1V step, 10-90%):<250ns
  3. Set of FRA2 modules for AC impedance measurements.
  4. -larger frequency range:10μHz to 1MHz
    -Much higher frequency resolution:100,000 frequencies per decade
    -External inputs:X and Y, two auxiliary input channels
  5. Set of control and data processing unit system

微量分析天平照片 名稱: 微量分析天平
位置: TB608奈微米製程實驗室
規格︰
  1. 稱量範圍 : 92g / 205 g
  2. 最小讀值 : 0.01mg / 0.1 mg
  3. 比重直讀
  4. 可扣除毛重: 205 g
  5. 再現性: ≦0.03mg / 0.1mg
  6. 線性誤差 : ± 0.06mg / 0.2 mg
  7. 反應時間: 10 / 3 秒
  8. 稱盤: 不袗 φ80 mm
  9. 防風罩 : 玻璃材質,高230 mm

自動化溫控加熱盤照片 名稱: 自動化溫控加熱盤
位置: TB608奈微米製程實驗室
規格︰
  1. 攪拌容量: 20公升
  2. 轉速範圍:0∼1100rpm
  3. 加熱功率:600W
  4. 溫度範圍:室溫∼300℃
  5. 尺寸: 160×280×90mm
  6. 重量:2.8公斤
  7. 操作環境:5∼40℃;80%R.H.
  8. 電源:115V AC;50/60 Hz

鑽石切割機盤照片 名稱: 鑽石切割機盤
位置: TB608奈微米製程實驗室
規格︰
  1. 轉速:0 ~ 300 rpm無段變速
  2. 馬達功率:1/50 HP以上
  3. 電源:115/220 V, 50/60 Hz, 單相, 150 W以上
  4. 可選擇鑽石切割片:127mm(5”), 102mm(4”), 76mm(3”)
  5. 試片切割完成,馬達自動停止安全功能

熱風循環烘箱照片 名稱: 熱風循環烘箱
位置: TB608奈微米製程實驗室
規格︰
  1. 溫度範圍:40~200℃
  2. 控制精度:±1℃
  3. 內外箱材質:內箱不袗板,外鍍鋅鋼板烤漆
  4. 溫度控制系統:PID 演算,SSR控制
  5. 溫度設定方式:指針設定
  6. 溫度表示方式:紅色LED數字顯示
  7. 測溫體:K TYPE
  8. 保溫材料:進口岩棉
  9. 安全裝置:電源馬達保護開關
  10. 送風馬達:1/8Hp
  11. 內部尺寸:W450×D400×H400mm
  12. 內容量:72 L

可程式高精度電源供應器照片 名稱: 可程式高精度電源供應器
位置: TB608奈微米製程實驗室
規格︰
  1. 300V, 1000W直流可調電源
  2. 數字LED顯示:數字顯示誤差≦0.5%±2digits
  3. 電壓、電流顯示解析度:1V(300)0.01A(3)
  4. 過電壓:短路限電流保護功能;CV/CC指示燈

去離子水製造機照片 名稱: 去離子水製造機
位置: TB608奈微米製程實驗室
規格︰
  1. 安全功能: 一次水停水主機自動停機,有效保護純水幫浦
  2. UV照射: 185/254nm雙波長UV照射,水環式石英管穿透、具殺菌及氧化有機化合物, 降低TOC
  3. 無菌過濾: 0.2μm精密過濾膜
  4. 電源:AC110V/60Hz
  5. 產率:1.5公升/分鐘
  6. 純度: 比阻抗值(M-ohm-cm)... 18.2

超音波洗淨機照片 名稱: 超音波洗淨機
位置: TB608奈微米製程實驗室
規格︰
  1. 洗淨槽尺寸: 300L x 240D x 150H mm.
  2. 外觀槽尺寸: 330L x 285D x 330H mm.
  3. 震盪子頻率: 40 KHz.
  4. 洗淨出力: 200 W
  5. 時間控制: 1-99 Min
  6. 溫度控制:室溫-60

鈕釦型電池封口機照片 名稱: 鈕釦型電池封口機
位置: TB609材料特性分析實驗室
規格︰
  1. 作密封型鈕扣型電池

膜厚量測儀照片 名稱: 膜厚量測儀
位置: TB609材料特性分析實驗室
規格︰
  1. 光譜範圍:350~850nm
  2. 量測膜厚範圍:10nm~20um
  3. 量測解析值:0.1nm
  4. 量測再現性:0.3nm(膜厚在10nm~1um)1nm(膜厚大於1um)
  5. 量測薄膜類型:可量測透明半透明薄膜;並可自行擴充資料庫

氮氣操作手套箱照片 名稱: 氮氣操作手套箱
位置: TB607-2能源與材料實驗室
規格︰
  1. 能產生<1ppm的氧氣及水份的環境,且具有此測試此環境的氧氣及水份偵測儀。包含活性碳氣體過濾器

桌上型表面粗糙儀照片 名稱: 桌上型表面粗糙儀
位置: TB609材料特性分析實驗室
規格︰
  1. 測試工件:量測平面,圓弧,凹槽,/外徑,鋼面,鏡面,小孔等
  2. 測定方式:電子感應接觸式,量測範圍: +/- 300 um
  3. 花崗石量測平台尺寸:630(W)x500(D)x100(H)mm附一條固定溝槽

低溫致冷機系統照片 名稱: 低溫致冷機系統
位置: TB610光機電整合實驗室
規格︰
  1. 需能配合本校已有之低溫系統整合控制
  2. 使用自動調整式溫度控制
  3. 二段式旋轉機械幫浦(120/每分)
  4. 至少一米真空活管
  5. 使用矽製二極體溫度探測器
  6. 溫控範圍10~300K
  7. 附配合系統之夾具及中心環

熱蒸鍍機照片 名稱: 熱蒸鍍機
位置: TB611薄膜製程實驗室
規格︰
  1. 3 1.4 KW 熱阻式蒸發源共用電源
  2. 高電流真空引入
  3. 手動切換控制模組(13)
  4. 每個蒸鍍源獨立氣動旋轉式擋板,有預鍍功能
  5. 膜厚監控器

小型CVD高溫爐照片 名稱: 小型CVD高溫爐
位置: TB611薄膜製程實驗室
規格︰
  1. 溫度控制器:室溫-1250度,具微電腦溫度控制介面
  2. 加熱器:電壓/電流-220V/9A110V/18A,具可程式化加熱功能,和PID自動演算溫度控制功能
  3. 製程反應時間範圍:室溫-1250
  4. 外管內部尺寸:ψ35cm x L80cm
  5. 內管內部尺寸:ψ11cm x L80cm